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動態(tài)光散射納米粒徑分析儀Nicomp N3000介紹

        Nicomp 380 N3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號380DLS基礎(chǔ)上升級配套而來，采用動態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理檢測分析顆粒的粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析軟件復(fù)合采用了高斯（ Gaussian）單峰算法和擁有專li技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有*優(yōu)勢。

動態(tài)光散射原理  

       下圖所示為DLS系統(tǒng)的簡單的示意圖。激光照射到盛有稀釋的顆?；鞈乙旱牟Ａг嚬苤小４瞬Ａг嚬軠囟群愣?，每一個粒子被入射光擊發(fā)后向各個方向散射。散射光的光強(qiáng)值和粒徑的分子量或體積（在特定濃度下）成比例關(guān)系，再帶入其他影響參數(shù)比如折射率，這就是經(jīng)典光散射（Classic light scattering)的理論基礎(chǔ)。

圖1：DLS系統(tǒng)示意圖

       zui新的動態(tài)光散射方法（DLS）從傳統(tǒng)的光散射理論中分離，不再關(guān)注于光散射的光強(qiáng)值，而關(guān)注于光強(qiáng)隨著時間的波動行為。簡單來說，我們在一定角度（一般使用90°角）檢測分散溶劑中的混懸顆粒的總體散射光信息。由于粒度的擴(kuò)散，光強(qiáng)值不斷波動，理論上存在有非常理想化的波動時間周期，此波動時間和粒子的擴(kuò)散速度呈反比例關(guān)系。我們通過光強(qiáng)值的波動自相關(guān)函數(shù)的計算來獲得隨時間變化的衰減指數(shù)曲線。從衰減時間常量τ，我們可以獲得粒子的擴(kuò)散速度D。使用Stokes-Einstein 方程式，我們zui終就可以計算得出顆粒的半徑（假定其是一個圓球形狀）。

動態(tài)光散射理論：光的干涉

       為了容易理解什么叫做強(qiáng)度隨時間波動，我們必須先理解相干疊加（coherent addition）或線性疊加（superposition）的概念,進(jìn)一步要知道檢測區(qū)域內(nèi)的不同的粒子產(chǎn)生了很多獨立散射光，這些獨立的散射光相干疊加或互相疊加的zui終結(jié)果就是光強(qiáng)。這種物理現(xiàn)場被稱為“干涉”。下圖是光干涉圖樣。

       每一束獨立的散射光波到達(dá)檢測器和入射激光波長有相位關(guān)系，這主要取決于懸浮液中顆粒的精確定位。所有的光波在PMT檢測器的表面的狹縫中混合在一起，或者叫干涉在一起，zui終在特定的角度可以檢測得到“凈”散射光強(qiáng)值，在DLS系統(tǒng)中，絕大部分都使用90度角。

技術(shù)參數(shù)：

Nicomp多峰分布    

       基線調(diào)整自動補(bǔ)償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所*的兩個主要特點，Nicomp創(chuàng)始人Dave Nicole很早就認(rèn)識到傳統(tǒng)的動態(tài)光散射理論僅給出高斯模式的粒度分布，這和實踐生產(chǎn)生活中不相符，因為現(xiàn)實中很多樣本是多分散體系，非單分散體系，而且高斯分布靈敏性不足，分辨率不高，這些特點都制約了納米粒度儀在實際生產(chǎn)生活中的使用。其開創(chuàng)性的開創(chuàng)了Nicomp多峰分布理論，大大提高了動態(tài)光散射理論的分辨率和靈敏性。如下圖所示：

圖一：Nicomp多分分布數(shù)據(jù)呈現(xiàn)

        如圖一：此數(shù)據(jù)為Nicomp創(chuàng)始人David Nichole親測其血液所得。其檢測項目為：高密度脂蛋白，低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白，平均粒徑分別顯示在7.0nm；29.3nm和217.5nm。由此可見，Nicomp儀器對于多組分體系的粒徑分布可以提供清晰地檢測數(shù)據(jù)結(jié)果。

Nicomp多峰分布優(yōu)勢  

Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。其不僅可以給出傳統(tǒng)的DLS系統(tǒng)的結(jié)果，更可以通過Nicomp多峰分布模式體現(xiàn)樣品的真實情況。依托于Nicomp系列儀器一系列優(yōu)異的算法和高靈敏性的硬件設(shè)計，Nicomp納米激光粒度儀可以有效區(qū)分1:2的多分散體系。

圖二：高斯分布及Nicomp多峰分布對比圖

        如圖二：此數(shù)據(jù)為檢測93nm和150nm的混合標(biāo)粒所得到的數(shù)據(jù)。左邊為高斯分布（Gaussian）結(jié)果，右圖為Nicomp多峰分布算法結(jié)果，兩者都為光強(qiáng)徑數(shù)據(jù)。從高斯分布可以得到此混合標(biāo)粒的平均粒徑為110nm-120nm之間，卻無法得到實際的多組分體系結(jié)構(gòu)。從右側(cè)的Nicomp多峰分布可以得到結(jié)果為雙峰，即如數(shù)據(jù)呈現(xiàn)，體系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近。由此可知，盡管93nm和150nm的混合標(biāo)粒之間粒徑差別已經(jīng)不大，由Nicomp的多峰算法仍然可以清晰地將體系中的多組分區(qū)分開來，可見N3000的靈敏性之高，其算法之精確，實為科研研發(fā)的zui佳幫手。
        為滿足不同客戶的實際檢測需求，我司的Nicomp 380 N3000會配備相應(yīng)的配置，旨在為客戶們在控制成本的基礎(chǔ)上，得到需求的解決方案，達(dá)到收益zui大化。

技術(shù)優(yōu)勢
檢測范圍：0.3nm -10μm；
校準(zhǔn)需求：無需校準(zhǔn)；
應(yīng)用領(lǐng)域：廣檢測，速度快，靈敏度高且對團(tuán)聚粒子靈敏度高；
法典法規(guī)：符合USP,CP等各國藥典要求；
復(fù)合型算法：高斯（Gaussion）單峰算法與專li的Nicomp多峰算法結(jié)合均可選擇；
模塊化設(shè)計：可同機(jī)搭載ZETA電位檢測模塊，還可增加自動稀釋，自動滴定和自動進(jìn)樣等輔助測試模塊，亦便于升級；

產(chǎn)品優(yōu)勢

應(yīng)用行業(yè): 乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等